Naredna generacija litografije

Canon je najavio da kompanija razvija narednu generaciju sistema poluprovodničke litografije koja koristi tehnologiju nano štampanja koja omogućava procese visoke rezolucije u tehnologiji manjoj od 20nm. U litografiji nanoštampanja matrica se dovdi u direktni kontakt sa otpornim materijalom na površini supstrata, što je proces prenosa šablona koji omogućava tačan transfer šablona matrice i omogućava više rezolucije odnosno uniformnije rezultate u poređenju sa konvencionalnom tehnologijom optičke litografije. Takođe, ova tehnologija ne zahteva upotrebu izvora svetlosti odnosno elemenat sočiva visokog otvora blende.