Nikon će istraživačkoj fondaciji univerzitet u Njujorku obezbediti 450mm Wafer ArF Immersion skener koji će biti isporučen u toku aprila 2015. godine. Nikon-ov 450mm Wafer ArF Immersion skener će koristiti kompanije članice Global 450 Consortium (G450C) čije je sedište u College of Nanoscale Science and Engineering (CNSE) i koje se bave razvojnim procesima, karakterizacijom i prikazima. G450C je zajednički projekat kompanija Intel, IBM, Globalfoundries, TSMC i Samsung, a cilj ovog konzorcijuma je da podrži industrijsku tranziciju sa 300mm na 450mm wafer proizvodnju.